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1965 Transactions of the third International Vacuum Congress
International Vacuum Congress (1965 : Stuttgart, Germany)
Sessions 9-13 discusses subjects in the field of cryogenics, vacuum metallurgy, sputtering, gettering, adsorption, desorption, and space simulation. The development and functional description of a cryo pump is covered in the first section of the book. The second section covers the measurement of the pumping speed of a cryo surface cooled with liquid nitrogen. The third topic is the examination of the cryo-getter pump. The van Arkel method is the transformation of a crude metal to a halogen compound. This method is broadly covered in the volume. A section of the text focuses on the production.
Front Cover; 1965 Transactions of the Third International Vacuum Congress; Copyright Page; Table of Contents; SESSION 9: Cryogenics ; Vacuum Metallurgy; Chapter 1. Eine Kryopumpe für Temperaturen bis 1,5°K mit sehr geringem Kältemittelverbrauch; Einleitung; Beschreibung der Kryopumpe; Vakuumapparatur, Arbeitsgang und Temperaturregelung; Theoretische Abschätzung des Saugvermögens; Experimentelle Ergebnisse; Kältemittelverbrauch und Betriebsdauer; Zusammenfassung; Referenzen; Chapter 2. Ein Beitrag zu den Untersuchungen des Saugvermögens einer Kryopumpe für Gasgemische.
1. Theoretische Betrachtungen2. Beschreibung der Versuchsanordnung; 3. Durchführung der Messungen; 4. Diskussion der Messergebnisse; Verzeichnis der verwendeten Abkürzungen und Symbole; Referenzen; Chapter 3. A simple cryo-getter pump for ultra-high vacuum; 1. Introduction; 2. Experimental; 3. Results; 4. Discussion; 5. Conclusion; References; Chapter 4. Pump speed measurements in a new type of cryopumped vacuum system; 1. General; 2. The vacuum system; 3. The measurement of pumping speed; References.
Chapter 5. Verteilung der molekularen Dichte und des Saugvermögens innerhalb grosser, mit Kryopumpen ausgerüsteter, Vakuumkammern1. Einleitung; 2. Theorie; 3. Anwendungen; Literatur; Chapter 6. Herstellung extrem gasfreier Metalle nach dem van Arkel-Verfahren durch mehrfache Umsetzung; Das Vakuumgiessen von hochreinen Kupferteilen; Einführung; Anforderungen; Methode; Kokillensatzauseinandernahme; Ausgangsmaterial vorbereitung; Zusammenfassung; Chapter 7. Elektronenstrahl-Schweissen unter Vakuum und an Atmosphäre.
Chapter 8. Vergleichende Betrachtungen der Umschmelzbedin-gungen im Vakuumlichtbogenofen und Elektronenstrahl-Mehrkammerofen1. Abschmelzgeschwindigkeit; 2. Temperaturhöhe und- verteilung über die Badoberfläche; 3. Badtiefe und Badvolumen; Schlussbemerkungen; Literatur; SESSION 10: Sputtering and Gettering; Chapter 9. Optimale Ausnutzung des Magnetfeldes bei lonen-Zerstäuberpumpen; Chapter 10. Untersuchung der elektrischen Gasaufzehrung von Ar, He, N2 und CO; Referenzen.
Chapter 11. Measurement by a hot W filament technique of the clean-up of water vapour in a N2 atmosphere by means of a getterIntroduction; Experimental apparatus; Experimental results; Discussion; Conclusions; References; Chapter 12. Low energy triode sputtering; Acknowledgements; References; Chapter 13. An evaluation of sputtering processes for long-term electric propulsion system testing; Nomenclature; References; Chapter 14. Bias sputtering of molybdenum films; Introduction; Sputtering apparatus and discharge; Sputtering variables and deposition rates; Film resistivity and purity.
Sessions 9--13 : 28 June--2 July 1965, Stuttgart, Germany